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    氧化錫銦(ITO) (In2O3):(SnO2)

    氧化錫銦(ITO或者摻錫的氧化銦)是氧化銦(III) (In2O3)和氧化錫(IV) (SnO2)的混合物,按重量算,一般是90%的氧化銦In2O3和10%的氧化錫SnO2。

    粉末狀的氧化錫銦(ITO)為黃綠色,但當它被沉積成厚度為1000 – 3000埃的薄膜時是透明的。當它沉積為玻璃或透明塑料上的薄膜時,其功用就是透明導電體。?

    氧化錫銦(ITO)一般通過物理氣相沉積工藝進行沉積,如直流磁控濺射或電子束沉積。另外的做法是將氧化錫銦(ITO)用恰當的成膜高分子樹脂和溶劑系統融入墨水,用絲網印刷來沉積——這樣做的透明度和導電率比物理沉積工藝低。

    在透明導電氧化物(TCO)中,氧化錫銦(ITO)是公認的最佳TCO。它具有非常優異的導電性、透明度和穩定性,并且容易形成圖案從而用于制作透明電路。氧化錫銦(ITO)被用于多種顯示技術,例如LCD、OLED、等離子體、電致發光和電致變色顯示器,以及大量的觸摸屏技術。?

    這種多用途的材料功用不僅限于此,它還被應用于抗靜電銦錫氧化物涂料、電磁(EMI)屏蔽、光伏太陽能電池、飛機擋風玻璃、冷凍箱玻璃除霧等技術中。氧化錫銦(ITO)的應用還包括紅外反射涂層,可以用在諸如低輻射玻璃和低壓鈉燈中反射熱能。

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